第50章 光刻机事件（1/2）

“根据可靠消息，星条旗国正在向何兰政府施压，要求半导体制造商asml公司禁止对龙国出口光刻机出口。

asml主导的光刻机是生产全球大量芯片所需的主流技术。

其从最先进的euv扩展至相对成熟的duv，星条旗国的做法试图通过卡芯片制造的“喉咙”遏制龙国崛起的步伐。

星条旗国也曾试图对倭寇国施压要求其停止向龙国芯片制造商运送同样的技术。

这些都是对龙国的不公对待。

龙国卫视将持续进行报道。”

消息一出，龙国人民反应热烈，纷纷所求加快发展光刻机，以免再有他人威胁。

以星条旗国为首等国家驻龙国大使馆门前都是龙国抗议的人群。

此时龙国中科院内部十分压抑。

过往的科研人员都没有了以往的神采，只是匆匆走过。

龙国中科院院长办公室中，几位主要负责龙国光刻机突破的教授满脸愁容。

按照正常的研究进程，光刻机相关技术已经取得了巨大的进步，但是现在以星条旗国为首的相关国家，对必要的技术进行封锁，使得现在的研究成果功亏一篑。

此时的龙国中科院院长廖启发正一言不发的抽着烟。

此时他的压力可想而知。

“宿主请注意，现在发布重要任务请根据0.1纳米光刻机制造图纸，帮助龙国突破当前困局，任务奖励：极速磁悬浮技术。是否接受任务。”

“接受任务！”

……

廖启发抽着烟问道“你们现在研究到什么地步？还有什么难点吗？”

“廖院长，我们现在面临的难点很多，光刻机这是一种集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域顶尖技术的产物。

我们在很多领域的研究还不够深入，就单凭我们几个真的是太难了。

目前来讲世界主流的光刻机的基本结构最关键的部件只有三个：光源发射器、用来调整光路和聚焦的光学镜头，以及放置硅晶圆的曝光台。

第一个是光源，必须采用一种特殊的光源，也就是极紫外光，它的波长只有13.5纳米，是可见光波长的几十分之一。

但是，极紫外光源很难制造。

我们中科院其实研究这个光源已经有一段时间了，一直无法突破。

第二个是光学镜头，高度精密的光学镜头是光刻机的核心部件之一，目前何兰、倭国、泡菜国，都是生产光学镜头的佼佼者。

在这方面我们差距实在太大，一直都是依靠进口的，但是现在以星条旗国为首的几个国家从中作梗，我们的研究已陷入停滞。

我举个例子，比如：何兰的asml自己不生产镜头，但是德意志的卡尔蔡司会专门为他们提供镜头。

这种镜头有多精密呢？如果把镜头放大到一个地球那么大，它上面只允许有一根头发丝那样的凸起。

第三个是对准，我们现在所要研制的芯片不是一次曝光就可以完成的，而是必须更换不同的掩膜，进行多次曝光。

芯片的每个元器件之间只允许有几纳米的间隔。

这就意味着，掩膜和硅晶圆每次对准的误差，也必须控制在纳米级别。曝光完一个区域之后，放置硅晶圆的曝光台必须快速移动，接着曝光下一个区域。

要在快速移动中实现纳米级的对准，这个难度就相当于，你要从眨眼之间，端着一盘菜从北平故宫冲到魔都外滩，同时还要恰好踩到预定的脚印上，并且菜还保持端平不能洒。

这些都是我们所要继续解决的问题，当然还有后续的一些技术但是相对于以上三个来说，都是可以解决的。

简单地讲我们可以把光刻机看作一台高精度的底片曝光洗印机，它负责把“底片”，也就是设计好的芯片电路图曝光到“相片纸”上。

这个“底片”有一个专业名称，叫做“掩膜”。